巴西坎皮纳斯州立大学牵头搞出的这项研究，把一种新的量子点单光子发射速率给拉了上去，足足提升了3倍。这种量子点用的是低密度半导体材料，以前的传统工艺做出来的结构不规整、分布太密，不光有电子噪声还限制了速度。现在他们用的是局部液滴蚀刻法，就像拿“手术刀”一样雕琢表面，先弄出纳米孔洞再用一层薄薄的砷化铟镓把它填满。这么搞出来的东西几乎没什么缺陷，发光寿命很短，只有300皮秒，这就意味着光子落回基态发光的速度更快了。而且这种量子点非常稀疏，一平方微米就有0.2到0.3个，随便操控也不会互相干扰。 更厉害的是，通过控制里面铟的比例，它发的光波长能覆盖780到900纳米这一范围，正好跟集成光子学里的“黄金窗口”对上了。波长长点对传输损耗小的好处不言而喻，为以后的芯片互联铺平了路。这波研究发表在《纳米快报》上。量子点因为能抓住电子和空穴被称为“人造原子”，在现代量子技术里是不可或缺的单光子源。研究团队提到低密度、高对称、发光快、波长长这四大优势聚在一起，觉得它很可能会成为集成量子光子学里的明星产品。这种量子点还具备天然的偏振纠缠光子潜力，精细结构分裂值也达到了同类材料的顶尖水平，以后在加密和网络方面也能大显身手。