最近，荷兰分析师Jos Versteeg在2025年10月接受Insinger Gilissen公司采访时说，中国要追上ASML的DUV光刻机最新水平，至少得熬5年，而且只能“勉强追上”。ASML 2024年在中国的营收占比超过36%，但2025年管制升级后，公司预计这一数字会降到20%左右。荷兰分析师Jos Versteeg在Insinger Gilissen公司的采访中表达了这个观点。他认为中国需要5年时间才能勉强达到ASML DUV光刻机的最新水平。这个消息引起了半导体圈的广泛关注。 ASML 的营收在2024年时，中国市场贡献了超过36%，但在2025年的管制升级后，这个比例下降到了20%左右。荷兰分析师Jos Versteeg在Insinger Gilissen公司的采访中指出，中国要追上ASML的DUV光刻机水平，还得有很长的路要走。 中国工信部在2024年9月将国产氟化氩干式光刻机列入重大装备推广目录，分辨率达到65纳米以下，套刻精度控制在8纳米以内，已经开始应用于成熟制程芯片生产。舜宇光学子公司舜宇奥来在2025年7月14日把首台核心设备搬入上海临港基地，并且与国有投资机构和半导体企业签署了合作协议，重点发展集成电路光学部件协同发展项目。 ASML 的DUV光刻机是一个复杂的系统，包括液体注入、对准系统和多重曝光等多个环节。蔡司公司的光学镜组主导着ASML的技术，其多层镀膜工艺要求极高。舜宇光学在镜头制造领域有丰富经验，从显微镜到消费级产品都有产品线。 中国国内的半导体产业链正转向自给自足，成熟制程光刻机的应用范围也在扩大。舜宇奥来与中微半导体等企业合作，推动国产集成电路设备在光学领域的本地化协作。尽管中国有足够的资金和人才资源投入到光刻机研发中去，但实际验证数据需要时间积累。 中国的干式光刻机已经起步发展，浸润式光刻机还在攻克关键子系统方面努力。2025年7月14日舜宇奥来上海临港基地进驻核心设备并签署合作协议。韦尔斯蒂格认为追赶周期不会缩短太多，因为国内的技术验证还需要时间。 工信部将氟化氩干式光刻机列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的。舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产的空白。干式光刻机不需要液体介质控制那么复杂的系统。 中国半导体产业转向设备自给自足的方向发展。ASML 前CEO彼得·温宁克认为美国对中国设备出口管制更多是出于意识形态层面。工业部推广干式氟化氩集成路技术应用于成熟芯片制造。 韦尔斯蒂格关于5年追赶周期的说法源于中国对ASML DUV技术验证数据还需要时间积累。ASML 专利覆盖了全流程工艺；蔡司镜组反射率优化等算法都受专利保护。 中国企业虽然有足够资金和人才资源投入到技术研发中去，但实际验证数据还需要慢慢积累起来。中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的。 ASML 在2024年的营收中中国市场占比超过36%，但2025年管制升级后预计会降至20%左右。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；韦尔斯蒂格关于5年追赶周期的说法源于中国对ASML DUV技术验证数据还需要时间积累。 温宁克认为美国对中国设备出口管制更多是出于意识形态层面；ASML 专利覆盖了全流程工艺；蔡司镜组反射率优化等算法都受专利保护。 韦尔斯蒂格认为追赶周期不会缩短太多；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白；工业部推广氟化氩干式集成路技术应用于成熟芯片制造。 韦尔斯蒂格关于5年追赶周期的说法源于中国对ASML DUV技术验证数据还需要时间积累；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 韦尔斯蒂格认为追赶周期不会缩短太多；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。 中国工业部将氟化氩干式集成路技术列入重大装备推广目录是在2024年9月进行的；舜宇奥来项目填补了国内微纳光学规模化生产空白。