在半导体制造的关键环节——光刻机领域，荷兰阿斯麦（ASML）已确立领先地位。其极紫外光刻（EUV）技术凭借出色的精度和效率，成为7纳米以下先进制程的唯一选择，单台设备售价高达3.5亿至4亿美元。相比之下，曾经的行业巨头尼康和佳能虽然在步进式光刻机市场保持优势，但在EUV技术的研发和应用上进展缓慢。
光刻机市场的演变展现了高端制造领域"赢者通吃"的特点。技术领先需要长期投入和积累，阿斯麦在EUV领域的优势正是多年坚持的结果。虽然日系企业在传统光刻机时代表现突出，但在新技术竞争中选择了理性退出。未来随着高数值孔径EUV、纳米压印等技术的发展，市场可能出现新变化，但阿斯麦的主导地位短期内不会改变。这个产业格局也凸显了关键领域自主创新和技术积累的重要性。