2018年，中芯国际订购了7nm EUV光刻机，原定2019年中交付，但至今仍在港口等待。荷兰ASML公司垄断了EUV和DUV领域，国内在这一领域长期被“卡脖子”。科创板受理名单里，合肥芯碁微电子装备股份有限公司成为“光刻第一股”，这给国产光刻机带来了新的希望。2017年到2019年，芯碁微电子的营收从2218万元增长到2.02亿元，净利润也从-685万元扭转为4763万元。芯碁微电子主攻直写式微纳光刻机，能够覆盖高端IC载板和OLED掩膜版等需求。他们的产品矩阵包括8μm到75μm线宽的PCB直写、500nm到10μm线宽的泛半导体以及丝网印刷制版设备。 直写式光刻与ASML的掩膜投影光刻属于不同赛道。前者精度门槛在微米级，应用场景主要是PCB、掩模板和面板显示等非高端环节；后者精度在纳米级，应用于IC制造领域。尽管直写式光刻起步于低端市场，但它依然具有重要意义。 除了芯碁微电子，上海微电子、北方华创等公司也在攻关投影式光刻技术。上海交通大学、浙江大学、复旦大学等高校实验室里，EUV光源、物镜和掩膜版等核心零部件样件已多次成功曝光。 国产光刻机的国产化之路正在逐步推进。从8μm到75μm的突破标志着中国在这个领域迈出了重要一步。 未来几年内，芯碁微电子计划把最小线宽压到5μm和3μm，并同步开发KrF和ArF投影曝光机。 这次科创板首单光刻机的成功受理不仅是对国产半导体设备制造业发展的肯定，也是对硬科技创业者和投资者的一种激励。从8μm到75μm，从PCB到OLED面板，中国正在书写属于自己的“光”与“刻”传奇。