我国12英寸碳化硅衬底实现关键工艺贯通 第三代半导体迈向规模化国产供给新阶段

国际竞争加剧的背景下,我国半导体材料领域取得重要进展。2月22日,露笑科技宣布其合肥子公司成功研制出12英寸半绝缘型碳化硅单晶衬底,并完成全流程工艺验证。这填补了国内大尺寸碳化硅材料的技术空白,使我国成为少数掌握12英寸碳化硅制备技术的国家之一。 此成果源于十余项关键工艺的协同攻关。从超高纯度原料提纯、高温长晶温度场仿真,到纳米级抛光工艺,研发团队实现了全链条技术突破。样品参数已达到国际先进水平,同时覆盖导电型和半绝缘型两大品类,为下游应用提供了更多选择。 12英寸碳化硅衬底的优势明显。相比主流6英寸产品,单位面积产出芯片数量可提升4倍,大幅降低生产成本。在新能源车、光伏储能、5G通信等产业快速发展的当下,大尺寸碳化硅材料成为产业升级的关键。行业预测显示,到2030年全球碳化硅市场规模有望突破千亿元,年复合增长率超过30%。 长期以来,高端碳化硅材料市场被欧美日企业垄断。露笑科技通过"量产一代、中试一代、研发一代"的技术布局,逐步构建完整的产品梯队。目前公司6英寸产品已量产,8英寸完成中试,12英寸样品成功问世,形成了较为完整的技术储备。 这一突破将提升我国在第三代半导体领域的国际竞争力。一上可以缓解国内晶圆厂对进口材料的依赖,另一方面为下游应用企业提供了更具性价比的国产替代方案。在新能源汽车电驱系统、光伏逆变器等关键领域,国产碳化硅材料的应用将助力产业链降本增效。 从样品到规模化生产仍需克服诸多挑战。业内专家建议,应持续加大研发投入,完善产业生态,推动产学研协同创新,加快实现关键材料的完全自主可控。

露笑科技12英寸碳化硅单晶衬底的成功研制,是我国第三代半导体产业发展中的重要里程碑;它标志着国内在高端芯片基础材料领域实现了关键突破,为国产替代战略在半导体产业链上游的推进奠定了基础。随着该产品逐步从样品阶段向量产阶段迈进,将有力支撑新能源、光伏、通信等战略性新兴产业的发展,继续增强我国在全球半导体产业链中的竞争力。