中国想要把半导体产业的设备自给自足实现，还得至少花上5年时间，才能勉强追上ASML的DUV光刻机水平。最近Insinger Gilissen公司的Jos Versteeg在2025年10月接受了媒体采访，他提到中国想赶上ASML的最新技术水平，大概需要5年时间，而且是在不轻松的情况下才能实现。这个说法是Insinger Gilissen公司的CEO Jos Versteeg提出的。他当时提到，中国市场在ASML营收中的比例从2024年的36%降到了2025年20%左右。不过值得一提的是，美国对ASML出口给中国设备的管制让他们把更多精力投入到自己搞光刻机了。2024年9月，中国工信部已经把国产氟化氩干式光刻机列进重大装备推广目录，分辨率达到65纳米以下，套刻精度在8纳米以内。这种干式光刻机在成熟制程芯片上已经开始推广使用了。跟浸润式相比，这种干式技术不用再用液体介质控制那些麻烦事了，但精度还需要反复验证。浸润式DUV光刻机要复杂得多，需要协调液体注入、对准系统、多重曝光等环节，光源和工作台的稳定性直接决定了成像效果。ASML以前离不开中国市场，2024年的时候中国给它带来36%以上的营收比例呢。结果ASML的CEO彼得·温宁克就说了，美国的管制更多是意识形态那一套，跟当年对日本半导体贸易战完全不一样。现在的管制根本没有什么事实依据。他退休了还爱聊这些话题，看来也是真心关心行业发展。2025年7月14日，舜宇光学子公司舜宇奥来就把第一台核心设备搬到上海临港基地了，他们还跟国有投资机构、半导体企业签了合作协议。这个项目把技术共享和应用场景对接起来了。舜宇奥来填补了国内微纳光学规模化生产的空白。2025年7月14日这天，舜宇奥来就把第一台核心设备搬到上海临港基地去了。这次合作是跟国有投资机构和半导体企业一起搞的。这不仅能推动光学技术在人工智能设备制造方向落地还能推进整体产业链条形成。现在已经进入小批量试产阶段了，进度还挺快。 国内干式设备已经起步了，浸润式技术还在攻克关键子系统呢。舜宇光学这些年一直做镜头积累了不少经验。2025年7月14日那天，舜宇奥来在上海临港基地把首台核心设备给安装进去了。接着他们还跟一些国有投资机构还有半导体企业签了合作协议来重点搞集成电路光学部件的协同开发。这次主要是为了实现技术共享还有应用场景对接。 西门子前CEO彼得·温宁克也提到过类似的观点，美国现在对半导体产业进行的管制主要是意识形态层面上的东西跟当年日本半导体贸易战完全不一样了。 蔡司一直主导着光学镜组这块市场地位非常稳固，这可是从显微镜行业起家积累下来的深厚底蕴呢！ASML的专利覆盖了光刻机全流程包括反射率优化还有畸变校正算法等方面都有涉及。 国内资金和人才资源其实是充足的只是需要时间慢慢积累实际验证数据这些都不是花钱就能解决得了的问题。 这次中国工信部2024年9月份就把国产氟化氩干式光刻机给列进重大装备推广目录里去了分辨率在65纳米以下套刻精度在8纳米以内已经进入推广阶段专门用于成熟制程芯片生产上。 现在中国工信部2024年9月就把国产氟化氩干式光刻机给列进重大装备推广目录里去了分辨率在65纳米以下套刻精度在8纳米以内已经进入推广阶段专门用于成熟制程芯片生产上。 未来五年内中国跟ASML之间的技术差距肯定能缩小不少不过要完全对标ASML最新DUV水平还得持续砸钱投时间急不来这一套。 韦尔斯蒂格就是通过分析这些数据才判断出追赶周期很难缩短太多目前国内干式设备已经起步而浸润式技术还在攻克关键子系统一步一步来呢！ 虽然ASML中国营收比例有所下降但国内项目稳步推进进程依然在继续而且还在进一步扩大应用范围毕竟自己有了才踏实！ 舜宇光学子公司还跟中微半导体这些企业合作启动国产集成电路设备在光学领域进行在地协作连碳化硅衬底材料都加进来了开拓新材料应用场景把资本、技术、场景优势凑在一起就是怕单一环节被卡脖子产业自主化按照规划走稳得很！