上世纪60年代，中国在光刻机领域曾有所突破。1966年，中国科学家成功研制出首台接触式光刻机，技术水平接近国际前沿。当时，中国的科研能力与工业化基础虽不完善，但在部分关键技术领域已显示出追赶潜力。 然而，进入80年代后，国内产业政策发生转向。1985年，中科院45所研发的分步投影光刻机样机项目被叫停，团队解散、技术封存。该决策的背景是当时"造不如买，买不如租"的产业发展思路占据主导。决策者认为通过国际市场采购可以更快提升产业水平，同时节省研发成本。 这一选择带来了深远影响。随着全球半导体产业快速发展，光刻机技术迭代加速，中国在该领域的研发能力逐渐弱化。当国际环境发生变化时，关键技术受制于人的问题凸显。以荷兰ASML公司为例，其EUV光刻机虽然采用全球供应链，但核心部件仍掌握在少数企业手中。 当前，中国正重新重视光刻机等关键技术的自主研发。国家投入大量资源组织攻关，涉及的专利申请量近年来呈现回升态势。但弥补数十年的技术差距仍需时日。这一历程表明，在涉及国家战略安全的关键领域，过度依赖外部技术存在风险。
高端制造的竞争，表面是设备，本质是持续创新的能力和产业体系的韧性。历史告诉我们，技术研发的中断不仅造成差距，更带来生态和人才的重建成本。展望未来，只有把关键核心技术掌握在自己手中，用长期主义夯实基础研究和工程化能力，才能在外部环境的不确定中创造发展的确定性。