IBM与泛林携手开发亚1纳米工艺 联合突破极紫外光刻等核心技术

全球半导体产业遭遇技术瓶颈之际,IBM与泛林集团的战略合作颇具标志性。随着摩尔定律逐步逼近物理极限,传统硅基芯片继续微缩面临明显挑战。业内普遍认为,迈向1纳米及以下制程,需要同时突破材料、工艺集成与设备创新等多上难题。

从纳米片到背面供电,再到High NA EUV引发的新一轮图形化升级,先进制程正在从单纯“做得更小”转向“实现更强的系统集成”。产业链以长期合作联合攻关,是对技术复杂度快速上升的直接回应,也为下一代芯片在性能、能效与可制造性之间寻找新的平衡提供了空间。亚1纳米之争,最终比拼的是持续创新能力与工程化落地能力。