中微公司1月23日披露的2025年业绩预告显示，公司营业收入和净利润均实现两位数增长，其中营收增速达到三成以上，反映出公司在半导体装备领域的市场竞争力持续提升。
从财务数据看，中微公司预计2025年营业收入约123.85亿元，较2024年增加约33.19亿元，同比增长约36.62%。
归母净利润为20.8亿元至21.8亿元，较上年同期增加4.64亿元至5.64亿元，同比增长约28.74%至34.93%。
这种增长态势表明，公司不仅实现了收入规模的扩大，更通过提高运营效率实现了利润的稳健增长。
更值得关注的是研发投入的增长态势。
中微公司2025年全年研发投入约37.36亿元，较2024年增长12.83亿元，增幅达52.32%，占营业收入比例约为30.16%。
这意味着公司研发投入增速明显快于营收和净利润增速，充分体现了公司对技术创新和产品升级的战略重视。
高研发投入比例在行业内处于领先水平，为公司的长期竞争力奠定了坚实基础。
业务板块层面，中微公司主营的刻蚀设备表现突出。
2025年刻蚀设备销售收入约98.32亿元，同比增长约35.12%，占总营收的比重仍在八成以上，继续成为公司的核心业务支撑。
与此同时，LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入5.06亿元，同比增长约224.23%，增速远超主业，显示出新产品线的快速成长潜力。
从产品竞争力看，中微公司在关键工艺领域取得了重要突破。
公司针对先进逻辑和存储器件制造中的关键刻蚀工艺推出的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺已实现稳定可靠的大规模量产。
在CCP技术方向上，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，能够全面覆盖存储器刻蚀应用中各类超高深宽比需求。
在ICP技术方向上，适用于下一代逻辑和存储客户的ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发进展良好，加工精度和重复性已达到单原子水平。
到2025年底，中微公司刻蚀设备反应台全球累计出货将超过6800台，这一数字充分证明了公司产品在国际市场上的广泛认可度。
在薄膜设备领域，公司CDP产品部门开发的LPCVD、ALD等十多款导体和介质薄膜设备已顺利进入市场，设备性能完全达到国际领先水平。
支撑业绩增长的还有产能建设的进展。
中微公司位于南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已投入使用，这些新增产能为公司销售快速增长提供了有力保障。
从市场前景看，等离子体刻蚀设备作为半导体前道制造的核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。
随着全球芯片制造工艺不断升级，对高端刻蚀设备的需求持续增加。
中微公司在这一领域的技术积累和市场地位，使其能够持续获得国内外客户的认可，并在先进工艺节点实现突破。
从业绩预告看，中微公司以较高研发强度撬动产品能力提升，并在关键工艺设备领域加快规模化落地，体现出我国半导体装备企业在高端环节持续攻坚的态势。
面向未来，只有把技术创新与工程化能力、质量体系与交付保障、开放协同与长期投入有机结合，才能在更高水平竞争中巩固优势、拓展空间，为产业链稳健发展提供更有力支撑。