3月18日至20日，2026慕尼黑上海光博会在上海新国际博览中心成功举办。
作为亚洲地区规模最大、影响力最深的光电产业展览盛会，本届展会汇聚全球超过1200家光电企业，围绕"光启新元·势引未来"主题，深入探讨行业创新发展方向。
其中，来自杭州的玉之泉精密仪器有限公司携五大系列自主研发的直写光刻产品亮相，成为展会上的一大亮点，充分展现了我国在微纳加工领域的技术创新能力。
长期以来，高端光刻装备一直是制约我国集成电路、新材料等战略性产业发展的关键瓶颈。
直写光刻系统作为微纳加工的核心工具，在量子计算、生物医疗、新型芯片等前沿领域具有重要应用价值。
然而，这一领域长期被国外企业垄断，国内相关产品与国际先进水平存在明显差距。
在此背景下，玉之泉公司秉承浙江大学"求是创新"的精神传统，经过多年的持续研发投入，在直写光刻系统领域取得了多项突破性成果。
本次展出的产品阵容充分体现了玉之泉的技术实力和创新深度。
其中，双光子三维激光直写光刻系统能够实现50纳米特征尺寸的精密加工，达到国际先进水平，为微流控芯片、微机电系统等前沿研究提供了有力支撑。
AOD紫外激光直写光刻系统最小线宽达到300纳米，成功填补了国内高端紫外直写设备的空白，打破了长期以来的进口依赖。
飞秒激光微纳加工系统为特种光纤等战略性材料领域提供了从基础科研到规模量产的全流程解决方案。
UVD数字投影无掩膜光刻系统摒弃了传统掩膜版工艺，大幅降低了开发成本，特别适配于MEMS和量子芯片的快速原型开发。
VOP生物体打印光刻系统通过创新设计，显著提升了加工效率，能够实现载细胞材料的高精度成型，在生物制造领域具有广阔的应用前景。
这些产品的相继突破，反映了我国在高端科学仪器领域正在加快实现自主创新的总体趋势。
当前，国家已将量子科技、生物制造等列为重点发展的战略性新兴产业，而玉之泉的技术布局与这些国家战略方向高度契合。
公司创始人兼首席执行官张舟洋表示，慕尼黑上海光博会为企业展示创新成果、对接产业生态提供了重要平台。
在新发展阶段，玉之泉将坚持持续技术迭代，不断扩大产能布局，积极拓展国际市场，以自主创新推动中国直写光刻技术与装备走向世界舞台。
从产业发展的更深层次看，直写光刻系统的国产化突破具有重要的战略意义。
它不仅代表了我国在微纳加工领域的技术进步，更是推动高端装备自主可控的具体体现。
随着越来越多企业在这一领域取得创新成果，我国有望逐步建立起完整的直写光刻产业链，为量子计算、集成电路、生物医疗等战略性产业的发展提供坚实的装备基础。
玉之泉在慕尼黑上海光博会上的亮眼表现，展现了我国企业在高端装备制造领域的创新实力。
从填补技术空白到推动国产化进程，玉之泉的实践为行业树立了标杆。
在全球科技竞争日益激烈的背景下，自主创新已成为企业发展的核心驱动力。
未来，随着更多像玉之泉这样的企业崛起，中国高端装备制造业的国际竞争力将进一步提升，为全球科技发展贡献更多中国智慧。