挪威的一家初创公司 Lace Lithography，刚刚拿到了 4000 万美元的 A 轮融资。领头的人里有微软和 ASML 这两家大公司。它们看中了 Lace 正在研究的氦原子束技术，准备帮着它一起打破半导体行业里那个头疼的摩尔定律极限。 大家都知道 EUV 光刻机是个卡脖子的技术，这个时候 Lace 却不走寻常路，把目光投向了氦原子。这个 2023 年才刚成立的团队，打算用中性氦原子束来代替传统的光子。毕竟氦原子束的宽度只有 0.1 纳米，跟一个氢原子差不多大，完全不怕波长带来的衍射效应了。实验结果说，Lace 的聚焦精度比现在 EUV 的要高出 135 倍。 技术路线图已经画好了：2025 年先把中试机台造出来；2026 年给合作伙伴的晶圆厂用一用；2029 年就能有试点线量产了。这家公司还在 SPIE 2026 年的先进光刻会议上展示过结果，证明了它既能把分辨率提高到原子级，速度还能跟上。 团队阵容也很硬核，总部在挪威，还有西班牙、英国、荷兰这些地方都有研发中心。公司有 50 多个人，都是搞半导体、光学或者真空技术的。带头的是卑尔根大学的物理学家 Holst 和 Adrià Salvador Palau，他俩在低温电子学和操控原子束方面已经干了十多年了。 要是按照这套打法做下去，不光制程能简化，成本也能降下来。等到了 3 纳米这个关卡的时候，传统的 EUV 需要复杂的多重曝光和图案化，良率和成本都在往上涨。Lace 的氦原子束技术一次曝光就能搞定所有图案，省掉了那些昂贵的掩模和多次对准的步骤。 最让人惊喜的是成本这一块。按说法能把每片晶圆的制造成本下降 30% 以上。对于那些想要高性能、高集成的下一代芯片来说，这绝对是个好消息。 下一步是要跟各大晶圆厂巨头一起建工厂。一旦 2029 年试点线跑通了，原子级光刻就正式从实验室走到生产线上了。到时候全球半导体的格局可能就要被彻底改写了。