光刻机有几个最核心的环节，因为它是电路图案转移的起始步骤，所以一直都是晶圆制造流程里的重中之重。半导体设备里，价值最高、市场占比最大的品类就是它了。全球半导体设备市场的这1090亿美元销售额中，光刻、刻蚀和薄膜沉积算是最核心的三样，而光刻机的占比达到了约24%。照这个趋势走下去，2023年的时候，全球光刻机市场规模已经长到了271.3亿美元，2024年更是突破了315亿美元。不管是ASML、佳能还是尼康这三巨头，把61%、34%、5%这三块蛋糕瓜分走了。高端的EUV机型现在全被ASML给垄断了，剩下两家主要布局的还是成熟的DUV机型。 要说消费电子领域最近有些低迷吧，但电动汽车、风光储这些领域还有人工智能这几个新需求反而起来了，给整个半导体产业带来了不少动力。在这些新兴力量的推动下，全球对光刻机的应用需求也在增加。至于产品的销售结构呢，现在的局面是中低端的KrF和i-Line占大头，比例分别是37.9%和33.6%。紧接着是ArFi、ArF dry还有EUV，分别占到了15.4%、5.8%和7.3%。这就说明不同类型的光刻机在市场里的需求差异还是挺大的。 虽然高端市场被ASML把控得死死的，但EUV确实逐渐成了全球光刻机未来发展的大方向。如果想了解更多关于这个行业的详细数据和深入研究报告，可以去看看韦伯咨询新出的《2025年中国光刻机行业专题调研与深度分析报告》。